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凈化工程在設(shè)計(jì)時(shí)，無論是新建還是重新改造的凈化車間，都一定依照國(guó)家相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)范進(jìn)行?，F(xiàn)在國(guó)內(nèi)的相關(guān)企業(yè)很多，所以凈化工程企業(yè)之間的競(jìng)爭(zhēng)也很激烈，因?yàn)榭萍嫉陌l(fā)展使得市場(chǎng)對(duì)凈化工程的要求高了起來，從以前的價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)變成了現(xiàn)在的價(jià)值競(jìng)爭(zhēng)。所以相關(guān)的凈化工程企業(yè)應(yīng)該提高自身的自主研發(fā)能力，不斷的發(fā)展創(chuàng)新，才能適應(yīng)這個(gè)競(jìng)爭(zhēng)激烈的市場(chǎng)。潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢(shì)。

在實(shí)際施工中，凈化項(xiàng)目通常分為，分工和分時(shí)。 這種安排有利于各種和工作類型的管理。 但是，易于進(jìn)行多塵和無塵的交叉操作，應(yīng)盡可能避免這種結(jié)構(gòu)布置。 如果不可避免，應(yīng)該防止灰塵和有效清潔。1級(jí)：主要應(yīng)用于電子工業(yè)，這是目前對(duì)凈化工程要求高的環(huán)境，集成電路要求的精度要達(dá)到亞微米。隨著微電子工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域的突飛猛進(jìn)，對(duì)潔凈室的要求越來越高。及時(shí)生產(chǎn)間內(nèi)的例子直徑僅有1微米，也會(huì)使產(chǎn)品壽命受到影響。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。

濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對(duì)濕度超過55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。凈化工程在設(shè)計(jì)時(shí)，無論是新建還是重新改造的凈化車間，都一定依照國(guó)家相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)范進(jìn)行。